物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。

物理气相沉积镀膜主要分为三类蒸发镀、溅射镀和离子镀。磁控溅射镀只是溅射镀的一种方法，不过最为主流。作为装饰类镀膜，现在以离子镀最为常见。

以不锈钢钛金举例，大致了解一下PVD技术。不锈钢工件清洗干净后进入真空罐，抽真空到10^-3Pa这个级别，再通入氮气到0.1-1.0Pa，钛金属放电通过等离子化的氮气，沉积到（负偏压）的工件上。沉积物是金色的氮化钛（TiN）。

这种装饰性镀膜，厚度一般都是低于1微米，别想着性能有多少好。当然了，如果有几个微米厚度，那硬度就完美了，可以胜任切削刀具的镀膜。

一般PVD单层就够了，多层一般是为了增加结合力。多层每一次抽真空，时间都是很长（20-30min），效率低，单价高。另外性能好的镀膜，沉积速度都不快，一般1微米/小时。