什么是PVD镀膜靶材?

物理气相沉积(PVD)是一种薄膜制备技术,可在真空条件下将靶材的表面物理汽化为气态原子,分子或部分离子化为离子.然后,通过低压气体(或等离子体)将具有特定功能的膜沉积在基板的表面上.物理气相沉积的主要方法包括真空蒸发,溅射沉积,电弧等离子镀,离子镀等.PVD膜沉积速度快,附着力强,衍射性好,应用范围广.

PVD镀膜靶材的基本原理

物理气相沉积技术的基本原理可以分为三个处理步骤:

(1)镀层材料的气化,即镀层材料蒸发,不类似溅射.

(2)电镀原子,分子或离子的迁移:原子,分子或离子碰撞后发生各种反应.

(3)电镀原子,分子或离子沉积在基板上.